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中频磁控溅射电源和直流磁控溅射电源哪个更好

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中频磁控溅射电源和直流磁控溅射电源哪个更好

作者:深圳市jnh官网电气有限公司

时间:2022-12-13

中频磁控溅射电源是大家都比较熟知的磁控溅射电源,但是在这之前常用的是直流磁控溅射电源射频电源,算得上是真空镀膜行业的一大进步,下面就来了解中频电源有哪些优势。

磁控溅射之前是采用直流电源,靶材接负极。但是直流辉光放电的密度小,因此溅射的速率低,采用中频电源,频率有20KHZ,40KHZ、100KHZ,中频电源的两个极接两个磁控溅射靶,放电以后,两个极的极性迅速发生变化,是两个靶的带电粒子做震荡运动,增加了电子与氩气的碰撞机率,靶电流密度增大,沉积速率提高,还可以克服靶中毒获得绝缘膜,比如氮化硅、氧化铝。

在沉积高新技术产品中很多都需要镀绝缘膜。在采用中频电源之前,镀绝缘膜是采用射频电源,射频电源的频率是13.56MHZ,靶材是化合物靶,但是化合物的溅射速率比纯金属的速率低,另外射频电源对人体有辐射有危害,对周围的弱点仪器有干扰,必须有可靠的屏蔽措施,价格也比较归而且功率比较小,做不了很大震荡,镀膜的功率也很小。采用中频电源可以克服靶中毒,使反应镀膜速率加快。

综上所述,可以了解到中频电源的优势很大,针对沉积速率这个功能的应用,jnh官网推出的一款频率更高的高频中频电源,在沉积速率和离化率方面有很大的改善。如有兴趣了解来电咨询.

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